半導體工程－先進製程與模擬 (Silicon VLSI Technology: Fundamentals, Practice, and Modeling)
內容描述
Character:
本書不僅在矽晶片製作的相關實例上作描述，也在科學的基礎上作描寫。科學的定理將以許多事例的製程情況下來描述；在大部分的章節裡，模型已經在電腦的模擬程式下來討論，更使用大量的模擬例題來敘述科技運作與顯現不容易被看見的技術方法，發現這些工具的確是一個相當有力的技術軟體。
Content:
第一章 積體電路介紹與歷史展望
第二章 現代化的
CMOS 技術
第三章 晶體成長、晶圓製造與矽晶圓的基本性質
第四章 半導體製造
─ 無塵室、晶圓清洗、吸附
第五章 微影
第六章 熱氧化與
Si/SiO2 界面
第七章 摻質擴散
第八章 離子佈植
第九章 薄膜沉積
第十章 蝕刻
第十一章 後段技術
附錄
英中文索引
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